这个部门都去了，接下来不是他们半导体研究中心，就是老黄那边的微型计算研究中心。
听贺兰山暂时回不来，高厂长要投身到微型的研究中去。
所以老黄那边应该是最后一站才对。
按理该轮到他们这边了。
咋就被略过去了？
是自己哪里做的不好？
王主任开始反思。
想起了前几天余明城传达的工作指示。
那或许，不该简单的复刻这些光刻，更重要的是得有自己的专利？
行吧。
随便领导什么时候来视察吧。
他先安排人，把这交代下来的任务捋清再。
南雁的耳报神很快就带来了消息。
半导体研究中心那边开始进行光刻的相关研究。
这个消息让南雁笑了起来，行，她改天有空去半导体研究中心那边一趟。
王主任完全没想到，他这边不期待人来了，准确点想着拿出点得过去的东西后，再等着人过来。
结果领导冷不丁的过来了。
猝不及防啊。
“我就是过来看看。”南雁对械还算懂行，但光刻这可不止是械，涉及到了光化学种种，她虽知道一些关键性的知识。
但眼下压根派不上用场。
提了也没用。
光刻的发展历程大概可以分为五代。
接近式光刻、分步重复式等倍投影光刻、步进式缩投影光刻、步进扫描式投影光刻以及日后大杀四方的极紫外光刻即euv光刻。
六十年代和七十年代前半段是接近式光刻的时代，尽管后来出现了渐进式光刻，但因为技术缘故，良品率低，这导致芯片成本居高不下。
就连美国军方都觉得贵。
提高良品率显然很有用。
想要提高良品率，不外乎两个途径，一来提高晶圆也就是多晶硅的纯度。
二来则是提高光刻的性能。
无线电厂这边选择的是提高晶圆的纯度，这当然无可厚非。
甚至可以，掌握了这一技术，不管何时都能够保证绝对的晶圆纯度，在眼下比提高光刻性能更具有性价比。
试想，国内光刻远远落后于日本，现在还在使用接近式光刻技术却能够达到和日本半导体一般无二的良品率，可以想象晶圆纯度的提升有多牛掰。
但只有这个技术还不够。
毕竟提升晶圆纯度的方法是多样的，不定哪天日本也掌握了其他方法提高晶圆纯度。
到那时候这专利也不再具有独一无二性。
咋办呢？
所以提高光刻的性能是必备选项。
一口吃个大胖子不可能，再现在的技术也远远没达到二十世纪末的标准。
极紫外光刻技术这个杀锏与这个时代格格不入。
国内半导体设备想要发展，也得循序渐进的来。
事实上在七十年代，还是硅谷那边的半导体厂商在打架，日本半导体产业远没有那么强有力的竞争力。
马萨诸塞州的perkneler率先搞出了投影式光刻
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